Intel展示未来工艺制程技术:目标3nm

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IT之家9月19日消息 除了提前大选了最新的10nm工艺制程的参数以及Intel某些工艺制程的技术参数之外,Intel还在今天的尖端发布会放满出了未来的技术研究路线图,在路线图之中,Intel表示目前未来的目标可能性是3nm,而现在全新的10nm以及7nm基本占据 研究完毕的情况报告。

在Intel的tcp连接路线图中,5nm工艺制程以及3nm工艺制程占据 暗蓝色的前沿研究阶段,而10nm和7nm则是研究基本完成的情况报告,至于更前面的14nm工艺制程则是占据 已投产的情况报告。

为了应对未来更低工艺制程带来的严苛挑战,Intel简单介绍了未来的八项前沿研究技术,包括纳米线晶体管、III-V族晶体管,3D-堆叠、密集内存、密集互联、EUV图案成形、神经元计算以及自旋电子学等前沿尖端领域。而现在由消息称Intel或许在21世纪20年代推出全新的CPU架构,或许到以后就都都要应用那些最新的科技技术。